低温小型恒温水槽（-5℃～90℃）MD20-30I提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。

高低温恒温槽（-40℃～180℃）实现高温195℃，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用，低使用温度-40℃

高低温恒温槽MGD40-12为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源， 应用于-40℃～180℃（高至温度195℃）石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用

计量检定槽（-40℃～90℃）提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。

MDG20-54-高低温恒温循环槽-（20℃～180℃）实现高温195℃，低温-20℃恒温测试，为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度达到±0.05℃， 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。

MGD40-30-高低温恒温循环槽（-40℃～180℃）为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源， 应用于-40℃～180℃（高至温度195℃）石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用

MD10-100-大容量低温恒温槽（-10℃～90℃） 低温恒温槽提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。

高温恒温循环槽采用PID微机智能控制系统，配合高温油泵循环，使槽内温度更均匀、控温更精确；用于样品保存、分析测试、计量检定以及化学反应工艺过程控制，也可以作为普通温度计及其它温度测量仪表制造中的定标用途，可以按用户要求提供流量、压力及接口连接方式、连接尺寸等定制。

高温检定恒温槽用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门，高等院校，企业质检及生产部门，对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试，为用户工作时提供一个热受控，温度均匀恒定的场源；可实现90℃～300℃温度控制，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度达到±0.01℃